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Skalierbarkeit von Rolle-zu-Rolle-UV-Nano-Imprint-Prozessen
2020, 182   S., 21 cm, Softcover
Apprimus Verlag

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Sascha Bott
Modellierung und Simulation des Chemisch-mechanischen Planarisierens unter besonderer Berücksichtigung langreichweitiger Wechselwirkungen auf der Chipskala
Hrsg.: Fraunhofer IPMS
2017, 172  S., zahlr., teils farb. Abb. u. Tab., Softcover
Fraunhofer Verlag

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