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Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie
Stephan Altmannshofer
Hrsg.: Fraunhofer EMFT, München
2019, 228 S., zahlr., teils farb. Abb. u. Tab., Softcover
München, TU, Diss., 2018
Fraunhofer Verlag
ISBN 978-3-8396-1443-3
Stephan Altmannshofer
Hrsg.: Fraunhofer EMFT, München
2019, 228 S., zahlr., teils farb. Abb. u. Tab., Softcover
München, TU, Diss., 2018
Fraunhofer Verlag
ISBN 978-3-8396-1443-3
Inhalt
In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse untersucht. Es werden Ätz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie nötig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterstützten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 °C abgeschieden werden.
Verfügbare Formate
Publikationslisten zum Thema:
Fraunhofer EMFT, electronic devices & materials, plasma physics, solid state chemistry, Mikrowellenplasma, PECVD, Halbleitertechnologie, Spektralellipsometer, Epitaxie, Elektroingenieur, Physiker, Chemiker, Nanotechnologe,
Fraunhofer EMFT, electronic devices & materials, plasma physics, solid state chemistry, Mikrowellenplasma, PECVD, Halbleitertechnologie, Spektralellipsometer, Epitaxie, Elektroingenieur, Physiker, Chemiker, Nanotechnologe,
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